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In-Line Gas Filters
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运用领域 半导体、液晶 应用示例 *CVD *PVD *ETCH *离子注入
特性和优点 *压力损失低,可实现高效除微粒性能。 *适用于100SLM以下流量,可用于各种工艺气体。 *全金属材料，可高温焙烤。 *适用于100SLM以下,流量最大3000Nm3/h的大流量,可用于各种工艺气体。 |
联系电话：010-8888-888
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公司地址：北京市某某大街某某大厦
服务时间：周一到周五10:00-18:00
