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运用领域 硅晶炉、扩散炉、CVD、半导体设备等
应用示例 *微导管成型*食道癌等诊疗器械
*一次性诊疗手术耗材、药液、水和空气的输送及保护
一般的真空,太阳能,半导体
对CVD和ALD工艺的精细控制
针对气流中含有颗粒的苛刻下游工艺的设计
特性和优点 *控制性能
*非常快的操作
*良好的压力控制
*可靠运行
*运营成本低
联系电话:010-8888-888
公司地址:北京市某某大街某某大厦
服务时间:周一到周五10:00-18:00